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  • 檢索結果:共6筆資料 檢索策略: "indium".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="氧化銦錫"


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    離子束濺鍍法沉積氧化銦錫透明導電膜之特性分析
    • 電子工程系 /100/ 碩士
    • 研究生: 鄭立琦 指導教授: 趙良君
    • 本實驗使用離子束濺鍍法在玻璃基板上沉積氧化銦錫薄膜,利用改變基板溫 度及退火溫度來觀察薄膜特性的變化,分別使用室溫、100 及200℃來沉積薄膜。 在室溫下沉積未退火的ITO 薄膜呈現非晶結構,當薄…
    • 點閱:244下載:0
    • 全文公開日期 2017/06/18 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    轉印氧化銦錫薄膜於有機電子材料之研究
    • 化學工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 楊曉韻 指導教授: 戴 龑
    • 本研究利用射頻電漿濺鍍沉積氧化銦錫(ITO)薄膜於水溶性高分子polystyrene sulfonate (PSS)上,以翻膜轉印之技術將ITO薄膜轉移至有機高分子材料表面,作為有機光電元件之透明電…
    • 點閱:278下載:2

    3

    捲繞式濺鍍氧化銦錫薄膜之二氧化碳雷射退火研究
    • 機械工程系 /100/ 碩士
    • 研究生: 黃鵬慈 指導教授: 趙振綱
    • 本研究中,我們利用捲繞式(roll-to-roll,R2R)脈衝直流濺鍍系統來濺鍍銦錫氧化(indium tin oxide, ITO)導電薄膜於聚對苯二甲酸乙二酯聚合物(polyethylene …
    • 點閱:377下載:6

    4

    混合高分子犧牲層轉印氧化銦錫薄膜於透明有機電子元件之研究
    • 化學工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 李佾修 指導教授: 戴龑
    • 本研究在於改良薄膜轉印法之犧牲層,利用射頻磁控濺鍍氧化銦錫(ITO)薄膜於犧牲層基板上,並藉由轉印法將ITO薄膜轉印至有機光電元件的高分子主動層上,可得到可見光透明薄膜電晶體,亦可避免濺鍍過程及退火…
    • 點閱:263下載:1

    5

    氮化鎵發光二極體串聯電阻最低化的元件電路模型與製程改進
    • 光電工程研究所 /100/ 碩士
    • 研究生: 陳景煌 指導教授: 葉秉慧
    • 在發光二極體(Light emitting diode, LED)中,串聯電阻造成額外的能量損耗並產生熱,為降低串聯電阻值,本論文先建立LED元件電路模型,依據電流擴散路徑,分析總串聯電阻分別為何處…
    • 點閱:220下載:10

    6

    Photovoltaic Performance of p-type Dye-Sensitised Solar Cells Based on Solid and Flexible Electrode Systems
    • 應用科技研究所 /108/ 博士
    • 研究生: Habtamu Fekadu Etefa 指導教授: 今榮東洋子
    • 摘 要 如今,由於世界各地具有不同的發展潛力,因此需要不同種類的可再生能源,例如地熱能、風能、波浪能、水力發電和光伏。太陽能是大自然的免費禮物,絕對是最容易獲得和最受歡迎的能源之一,其可以解決目前所…
    • 點閱:436下載:1
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